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標(biāo)識(shí)牌制腐蝕工藝有以下步驟

一、標(biāo)識(shí)牌去層：

1. 堿洗去層：在反響容器中制造 20-40%的氫氧化鈉溶液為腐蝕溶液，將標(biāo)識(shí)牌參加堿鍋里進(jìn)行腐蝕，依據(jù)標(biāo)識(shí)牌的結(jié)深斷定腐蝕時(shí)刻，一般為30---120秒。用漏勺撈起看硅料外表是否亮光無(wú)雜質(zhì)。

2. 沖刷殘堿：在沖刷槽中將標(biāo)識(shí)牌上附著的殘堿沖刷潔凈。

3. 超聲波超洗：在超聲波內(nèi)注入足量純凈水以可以淹沒(méi)標(biāo)識(shí)牌為準(zhǔn)；將 10－15 千克的標(biāo)識(shí)牌用純凈水沖凈，倒入清洗槽內(nèi)，翻開(kāi)超聲機(jī)清洗開(kāi)關(guān)，每10分鐘將標(biāo)識(shí)牌悉數(shù)翻動(dòng)一次，防止疊片時(shí)攙雜雜質(zhì)，無(wú)法清洗出來(lái)。清洗 20 分鐘換兩次水后封閉超聲清洗開(kāi)關(guān)，將槽內(nèi)清洗水放盡；用高純水再超兩次（每次 10 分鐘），每3分鐘將標(biāo)識(shí)牌翻動(dòng)一次，最終封閉超聲波開(kāi)關(guān)，放盡清洗水，翻動(dòng)標(biāo)識(shí)牌，將雜質(zhì)和殘留標(biāo)識(shí)牌上的清洗水沖盡；氫氟酸浸泡：在浸泡池中裝備15%～ 25%的氫氟酸溶液，將標(biāo)識(shí)牌放入浸泡池內(nèi)浸泡 5-6 分鐘，并拌和標(biāo)識(shí)牌防止疊片?；蛴?：15－1：20 的混酸進(jìn)行清洗30S 左右；沖刷殘酸：在沖刷槽中將標(biāo)識(shí)牌殘酸沖刷潔凈；

4. 超聲波清洗： 

A、在超聲波內(nèi)注入足量純凈水以可以淹沒(méi)標(biāo)識(shí)牌為準(zhǔn)。

B、將 10－15 千克的標(biāo)識(shí)牌用純凈水沖凈，倒入清洗水槽內(nèi)，翻開(kāi)清洗開(kāi)關(guān)，每 10 分鐘

將標(biāo)識(shí)牌悉數(shù)翻動(dòng)一次， 防止疊片時(shí)攙雜雜質(zhì)， 無(wú)法清洗出來(lái)。 超聲時(shí)刻按車(chē)間具體規(guī)定履行。

C、用高純水沖刷標(biāo)識(shí)牌，將殘留雜質(zhì)沖凈。

D、用高純水沖刷將雜質(zhì)和殘留標(biāo)識(shí)牌上的清洗水沖盡。

E、脫水：用紗網(wǎng)，每次放標(biāo)識(shí)牌 5-6 千克到脫水機(jī)中脫水 2 分鐘。

F、沖刷：將標(biāo)識(shí)牌放入沖刷槽中沖洗并拌和。

G、烘干：將標(biāo)識(shí)牌放入花籃中，堆積厚度小于２厘米，并將標(biāo)識(shí)牌用塑料棒劃通氣縫。烘箱溫度調(diào)至 115℃，烘干 2～4 小時(shí)。

二、標(biāo)識(shí)牌浸泡：

1. 濕法蝕刻工藝：將標(biāo)識(shí)牌倒入浸泡池中，體積不超越浸泡池的 2/3 。在浸泡池中倒入腐蝕溶液。腐蝕溶液為氫氟酸 49-59%的工業(yè)純刻蝕溶液，浸泡 12 小時(shí)后，放出酸液，將硅

片沖刷潔凈。

2.去除金屬沾污：制造王水溶液，依據(jù)氣溫變化稀釋至 30-50%的濃度，浸泡 12 小時(shí)后，放出酸液，將標(biāo)識(shí)牌沖刷潔凈。

3.二次濕法蝕刻工藝：將標(biāo)識(shí)牌倒入浸泡池中，體積不超越浸泡池的2/3。在浸泡池中倒入腐蝕溶液。腐蝕溶液配比為 HF：NH4F=（6-10）工業(yè)氫氟酸，浸泡： 112 小時(shí)后，放出

酸液，將標(biāo)識(shí)牌沖刷潔凈。